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化學穩(wěn)定性：石墨在真空爐中可能接觸到各種化學物質(zhì)，包含腐蝕性氣體、熔融金屬等。因而，真空爐石墨件需要具有杰出的化學穩(wěn)定性，以抵抗這些化學物質(zhì)的侵蝕和腐蝕。

真空爐的真空度要求應(yīng)該在10^-5至10^-6的范圍內(nèi)，即每立方厘米的氣體分子數(shù)在這個范圍內(nèi)

真空爐的真空度對資料的制備質(zhì)量有著非常重要的影響。

真空爐是一種可以在高溫下制備資料的設(shè)備，一般需要在載體（如石英管）內(nèi)部抽出氣體，以創(chuàng)造一個低壓環(huán)境。在真空爐中，真空度是一個非常要害的指標。

真空爐石墨件在真空爐中的工作環(huán)境是極點且雜亂的

包裝：運用具有杰出防潮、防塵功用的包裝資料對真空爐石墨件進行包裝。

真空爐石墨件在此環(huán)境下工作，需求具有出色的密封功能，以避免氣體泄露和外界雜質(zhì)進入。